사이트 내 전체검색

보유장비

      7e7a8ee557d7dcd70f3e3a3451f7b3e3_1611922291_3848.jpg

      Field Emission Scanning Electron MicroscopeFE-SEM (전계 방사형 전자현미경)

      • Model TESCAN MIRA3 LMU
      • 담당자 현상화 / 042-860-7723
      • 기기실 103호

      • 시료 정보

        시료 상태고체 (분말 또는 필름 형태, 비휘발성)

        시료양 및 크기Maximum size 2~3(cm)

      • 원리 및 특징

        Schottky 전계방사형 (Field emission) 전자총은 열방사형 전자총 보다 수백~수천 배 정도의 높은 휘도(Brightness) 및 수 nm의 전자빔을 얻을 수 있으므로 고분해능의 측정이 가능.

        전자기 렌즈에 의하여 방출된 전자빔을 집광시킴.

        집광된 전자빔을 시료에 주사하였을 때 시료와 충돌하여 발생하는 2차 전자를 검출하여 시료의 미세한 표면 구조를 관찰, 후방 산란 전자를 검출하여 시료를 구성하는 원소에 대한 정보를 얻음.

        피사체 심도가 높기 때문에 3차원적인 영상의 관찰이 용이하며 곡면 혹은 울퉁불퉁한 표면의 영상 관찰 가능.

        10-3 Pa 이하의 고진공상태에서 분석이 진행 되므로 수분을 함유한 시료는 측정이 불가능함.

        낮은 가속전압에서도 고해상도의 이미지를 얻을 수 있으므로 시료 손상이 일어나기 쉬운 재료의 표면 구조 분석에 적합.

      • 용도 및 활용분야

        금속공업파괴면, 결정 상태, 전선 등의 관찰

        반도체공업불량해석, 품질 관리

        화학공업수지 및 부식상황 등의 관찰, 촉매 등의 연구

        섬유 공업파괴면, 측면의 형상, 표면처리 관찰

        고무공업충진제의 분포, 구조 등

        정밀공업부품의 마모상황 등 관찰

      • 보유장비 및 주요규격



        Model TESCAN MIRA3 LMU
        Electron gun High brightness Schottky emitter
        Resolution 3.5 nm at 1 kV, 1.2 nm at 15 kV(In-Beam SE)
        Accelerating Voltage 0.2 kV to 30 kV
        Field of view 20 mm at WD=30 mm
        Probe current 2 pA to 200 nA
        Chamber Internal diameter 230 mm / Door width 148 mm
        Specimen stage Fully motorized


        Model TESCAN MAGNA
        Electron gun High brightness Schottky emitter
        Resolution 1.2 nm at 1 kV, 0.6nm at 15 kV (In-Beam SE)
        Accelerating Voltage 0.2 kV to 30 kV (<50eV with BDM)
        Field of view 7 mm at WD=30 mm
        Probe current 2 pA to 400 nA
        Chamber Internal diameter 230 mm
        Specimen stage Fully motorized

      TOP